電化學拋光是以被拋光工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩電極同時浸入電化學拋光槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，陽極表面光亮度增大，這種過程與電鍍過程正好相反。

 電化學拋光機理－黏性薄膜理論如下。拋光主要是陽極電極過程和表面磷酸鹽膜共同作用的結果。從陽極溶解下來的金屬離子與拋光液中的磷酸形成溶解度小，黏性大、擴散速率小的磷酸鹽，并慢慢地積累在陽極附近，粘接在陽極表面，形成了黏滯性較大的電解液層。密度大、導電能力差的黏膜在微觀表面上分布不均勻，從而影響了電流密度在陽極上的分布。很明顯，黏膜在微觀凸起處比凹洼處的厚度小，使凸起處的電流密度較高而溶解速率較快。隨著黏膜的流動，凸凹位置的不斷變換，粗糙表面逐漸整平。不銹鋼表面因此被拋光達到高度光潔和光澤的外觀。

 由(you)此可(ke)見，溶(rong)液(ye)濃度(du)(du)和黏(nian)度(du)(du)是(shi)(shi)個重(zhong)要因素，特(te)別是(shi)(shi)溶(rong)液(ye)的黏(nian)度(du)(du)，往往表(biao)(biao)現在(zai)新配的拋(pao)光液(ye)雖(sui)然(ran)組(zu)分濃度(du)(du)達(da)(da)到了(le)要求，但由(you)于黏(nian)度(du)(du)尚未達(da)(da)到要求而拋(pao)不(bu)光，只有在(zai)經過一(yi)段時間的電(dian)解后才開始(shi)拋(pao)光良好。特(te)別是(shi)(shi)溶(rong)液(ye)與零件(jian)的界面濃度(du)(du)和黏(nian)度(du)(du)，在(zai)拋(pao)光中起著重(zhong)要作(zuo)用。這就是(shi)(shi)為什么要求零件(jian)在(zai)進(jin)入拋(pao)光液(ye)前表(biao)(biao)面水(shui)膜(mo)(mo)要均勻(yun)(yun)，否則零件(jian)表(biao)(biao)面帶水(shui)膜(mo)(mo)的不(bu)均勻(yun)(yun)性(xing)，破壞(huai)了(le)黏(nian)膜(mo)(mo)的正(zheng)常生成，發生局(ju)部(bu)過腐(fu)蝕現象。水(shui)洗(xi)后的零件(jian)最好甩干(gan)后迅速下槽，這樣通(tong)電(dian)拋(pao)光后，表(biao)(biao)面過腐(fu)蝕現象即可(ke)避免。

 電(dian)化學(xue)拋光(guang)(guang)(guang)還不(bu)(bu)能完全取代機(ji)械(xie)拋光(guang)(guang)(guang)。電(dian)化學(xue)拋光(guang)(guang)(guang)只是對金屬表面上起微(wei)觀(guan)(guan)整平(ping)作用(yong)。宏觀(guan)(guan)的(de)整平(ping)要靠(kao)機(ji)械(xie)拋光(guang)(guang)(guang)。電(dian)化學(xue)拋光(guang)(guang)(guang)對材料化學(xue)成分的(de)不(bu)(bu)均(jun)(jun)勻(yun)性和(he)顯微(wei)偏析特別敏感，使金屬基體(ti)和(he)非金屬夾雜物之間常(chang)被劇烈浸蝕，有時，有不(bu)(bu)良的(de)冶金狀態，金屬晶粒尺寸結構的(de)不(bu)(bu)均(jun)(jun)勻(yun)性、軋制痕跡、鹽類或(huo)氧化物的(de)污染(ran)、酸洗(xi)過(guo)度以及淬火過(guo)度等均(jun)(jun)會對電(dian)化學(xue)拋光(guang)(guang)(guang)產生不(bu)(bu)良影(ying)響。這些(xie)缺陷常(chang)常(chang)要靠(kao)先期的(de)機(ji)械(xie)拋光(guang)(guang)(guang)來彌補。

電化學拋光(guang)與手工機械拋光(guang)相比，能發揮下列優點：

 ①. 產品內外(wai)色澤一致(zhi)，清潔光亮，光澤持(chi)久，外(wai)觀(guan)輪廓清晰；

 ②. 螺紋(wen)中的毛刺在(zai)電解過程中溶解脫落，螺紋(wen)間配合松滑，防止螺紋(wen)間咬時的咬死現象(xiang)；

 ③. 拋光面抗腐蝕(shi)性能增強；

 ④. 與機械拋光(guang)相比，生產(chan)效率高，生產(chan)成(cheng)本低。